平面抛光机的抛光轨迹对抛光性能的影响

　　抛光精度，即抛光性能，是平面抛光机采购商及供货商共同关注的焦点。抛光轨迹是影响抛光性能根本的影响因素。

　　平面抛光机的抛光轨迹根据加工工件及加工盘的不同相对运动，有不定偏心研磨轨迹、定偏心研磨轨迹、行星式研磨轨迹、直线式研磨轨迹、方形分形研磨轨迹、摇摆式研磨轨迹等等。

　　一、不定偏心式研磨轨迹，其均匀性明显好于定偏心式轨迹，有利于工件面形精度的提高。适合于直径大于200mm的大尺寸工件的加工。量产型镜面抛光机的研磨抛光轨迹就是这种类型。

　　二、定偏心研磨轨迹的工件材料去除均匀性较差，越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直径不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨抛光机就是这种。

　　三、　行星式平面研磨运动轨迹最常见用于双面研磨机，当改变研磨盘转速和太阳转速之比时，工作效率及材料去除率会发生变化。

　　四、　直线式研磨使用的不是抛光盘，而是具有柔性的砂带，工件做单纯的回转运动。平面研磨抛光机自修整机构的刀具在研磨盘上的轨迹也就是这种。此种运动形式简单，如将研磨带加长可以形成批量生产，生产效率高。

　　五、摇摆式研磨轨迹比定偏心双轴式或直线式研磨更均匀。轨迹在加工面中心呈几种的趋势，是工件加工面中心处有凹陷的现象。

　　综上所述是几种不同的运动轨迹对抛光性能的影响。海德建议各位厂家在进行平面抛光加工中，一定要选择合适的动动轨迹。海德一直定位于研磨整体解决方案供应商角色。公司紧跟市场需求，可向客户提供平面研磨抛光机，双面研磨抛光机等系列产品及耗材。产品广泛应用于超硬材料精密工具加工以及半导体硅晶片、光学玻璃、陶瓷、液晶、手表玻璃、宝石、各种法兰、阀片、密封件、刀片等金属及非金属的零部件;同时海德拥有强大的技术团队，可根据客户要求设计及制作高自动化的非标设备以满足生产需求。海德服务热线：0755-89813868

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